脉冲激光沉积纳米NiO薄膜

高等学校化学学报 ›› 2002, Vol. 23 ›› Issue (11): 2043.

脉冲激光沉积纳米NiO薄膜

王英^1,2, 秦启宗²

1. 上海交通大学微纳米科学技术研究院, 上海200030;
2. 复旦大学化学系激光化学研究所, 上海200433

收稿日期:2002-05-22 出版日期:2002-11-24 发布日期:2002-11-24
通讯作者: 王　英(1970年出生),女,博士,从事纳米材料研究

A Nanocrystalline NiO Thin Film Prepared by Pulsed Laser Ablation

WANG Ying^1,2, QIN Qi-Zong²

1. Research Institute of Micro/Nanometer Science and Technology, Shanghai Jiaotong University, Shanghai 200030, China;
2. Department of Chemistry, Laser Chemistry Institute, Fudan University, Shanghai 200433, China

Received:2002-05-22 Online:2002-11-24 Published:2002-11-24

摘要/Abstract

关键词: 脉冲激光沉积, NiO, 纳米晶, 薄膜

Abstract: The NiO thin film electrodes were prepared by reactive pulsed laser ablation of a metallic Ni target in an oxygen ambient at different temperatures. X-ray diffraction and scanning electron microscopy measurements demonstrated that the films deposited at 600 ℃ exhibited nanocrystalline structure with an average particle size of～30 nm. Electrochemical properties of NiO films were examined by charge-discharge measurements. Excellent electrochemical performance, a high capacity retention compared to the amorphous NiO, could be achieved with nanocrystalline NiO films. The improved specific capacity, discharge rate and cycling performance might be related to nano-sized character of the thin film electrode of NiO. This NiO thin film could be used as a promising electrode material for all-solid-state thin film rechargeable Li-ion batteries.

Key words: Pulse laser ablation, NiO, Nanocrystalline, Thin film

中图分类号:

O614

TrendMD:

王英, 秦启宗. 脉冲激光沉积纳米NiO薄膜. 高等学校化学学报, 2002, 23(11): 2043.

WANG Ying, QIN Qi-Zong . A Nanocrystalline NiO Thin Film Prepared by Pulsed Laser Ablation. Chem. J. Chinese Universities, 2002, 23(11): 2043.

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