高敏侠, 林秀梅, 任斌
GAO Min-Xia, LIN Xiu-Mei, REN Bin*
摘要: 采用一种结合化学组装和电化学沉积制备均匀而且具有强SERS基底的方法, 研究了沉积电位对组装在ITO表面的金纳米粒子形貌的影响, 发现在-0.04 V下沉积5 min可以得到形貌均匀的纳米粒子. 利用现场电化学紫外-可见吸收光谱来监控电化学沉积过程, 发现沉积一定时间后, 紫外-可见吸收谱在600~700 nm区间出现新峰, 表明粒子间发生了有效的电磁场耦合. 对制备的基底进行拉曼成像, 结果表明, 基底的均匀性很好, 最强点与最弱点的d信号差小于20%, 符合商品化基底的要求.
中图分类号:
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