甲硫醇、甲醇在金属表面上的分解反应性能比较研究

高等学校化学学报 ›› 1998, Vol. 19 ›› Issue (3): 438.

甲硫醇、甲醇在金属表面上的分解反应性能比较研究

夏文生, 汪海有, 万惠霖, 张乾二

厦门大学化学系、物理化学研究所、物理化学固体表面国家重点实验窒, 厦门, 361005

收稿日期:1996-12-09 出版日期:1998-03-24 发布日期:1998-03-24
通讯作者: 夏文生,男,33岁,博士,副教授.
作者简介:夏文生,男,33岁,博士,副教授.
基金资助:
国家自然科学基金(批准号:29392006和29290300-03)资助课题.

Comparative Studies of Methanol and Methathiol Decomposition Reactivity on Metal Surfaces

XIA Wen-Sheng, WANG Hai-You, WAN Hui-Lin, ZHANG Qian-Er

Department of Chemistry, Institute of Physical Chemistry, State Key Laboratory for Physical Chemistry of Solid Surface, Xiamen University, Xiamen, 361005

Received:1996-12-09 Online:1998-03-24 Published:1998-03-24

摘要/Abstract

摘要： 用键级守恒-Morse势法比较了XH₃SH、CH₃OH在Ni(111)、Pt(111)和Cu(111)面上的热分解反应性能.结果表明,由Ni至Pt再至Cu,CH₃SH中C-S键断裂几率降低,而S-H键裂相对几率增加,而在Cu上仅发生S-H键裂.CH₃OH在Ni上易解离为CH₃和CH₃O-,在Pt、Cu上则较难解离.按Ni、Pt、Cu的顺序,CH₃S-选择性断裂C-S键的几率增加,而CH₃O-则选择性断裂C-H键的几率增加.CH₃XH、CH₃X-(X=O,S)解离活化能垒依Ni、Pt、Cu的顺序增加,CH₃OH在Ni上最终解离为CO,而在Cu上则解离为H₂CO.

关键词: 甲醇, 甲硫醇, 解离, 金属表面, 键级守恒

Abstract: The reactivities of methanol and methathiol on Ni(111), Pt(111) and Cu(111) have been investigated using bond order conservation-Morse potential(BOC-MP) method. The results show that, from Ni to Pt to Cu, the relative cleavage probabilities of C-S bond in methathiol decrease, and those of S-H bond increase, and thus on Cu surface only the S-H bond break occurs. Methanol on Ni surface is dissociated easily into CH₃- and CH₃O-, but the dissociation on Pt and Cu surface is not easy. From Ni to Pt to Cu, the cleavage selectivity of C-S bond in CH₃S— and C-H bond in CH₃O— increases. The dissociation barriers of CH₃XH and CH₃X—(X=O, S) increase in the order Ni<Pt<Cu. The final product of CH₃OH dissociation is CO on Ni surface, and H₂CO on Cu surface.

Key words: Methanol, Methathiol, Dissociation, Metal surface, Bond-order conservation

中图分类号:

O641

TrendMD:

夏文生, 汪海有, 万惠霖, 张乾二. 甲硫醇、甲醇在金属表面上的分解反应性能比较研究. 高等学校化学学报, 1998, 19(3): 438.

XIA Wen-Sheng, WANG Hai-You, WAN Hui-Lin, ZHANG Qian-Er. Comparative Studies of Methanol and Methathiol Decomposition Reactivity on Metal Surfaces. Chem. J. Chinese Universities, 1998, 19(3): 438.

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