半导体光催化剂的表面修饰

高等学校化学学报 ›› 1998, Vol. 19 ›› Issue (12): 2013.

半导体光催化剂的表面修饰

王传义, 刘春艳, 沈涛

中国科学院感光化学研究所, 北京, 100101

收稿日期:1997-11-25 出版日期:1998-12-24 发布日期:1998-12-24
通讯作者: 刘春艳.
作者简介:王传义,男,31岁,博士.
基金资助:
国家自然科学基金(批准号:29573141)、美国柯达公司及中国科学院感光化学研究所光化学开放实验室资助课题.

Surface Modification of Semiconductor Photocatalyst

WANG Chuan-Yi, LIU Chun-Yan, SHEN Tao

Institute of Photographic Chemistry, Academia Sinica, Beijing, 100101

Received:1997-11-25 Online:1998-12-24 Published:1998-12-24

摘要/Abstract

摘要： 从半导体光催化剂表面修饰的类型、机理及效果出发,对其研究进展作了综合评述.

关键词: 半导体, 光催化, 表面修饰

Abstract: The progresses in the surface modification of semiconductor photocatalyst, concerning the types, mechanisms and effects, are reviewed. The modification methods are followed into: (1) dye sensitization, (2) composite of semiconductors, (3) metal deposition and (4) ions modifying. They are compared, and the improvements are proposed.

Key words: Semiconductor, Photocalysis, Surface modification

中图分类号:

O644

TrendMD:

王传义, 刘春艳, 沈涛. 半导体光催化剂的表面修饰. 高等学校化学学报, 1998, 19(12): 2013.

WANG Chuan-Yi, LIU Chun-Yan, SHEN Tao . Surface Modification of Semiconductor Photocatalyst. Chem. J. Chinese Universities, 1998, 19(12): 2013.

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