尼龙1212/蒙脱土体系在剪切流场中蒙脱土片层剥离机理的研究

高等学校化学学报 ›› 2003, Vol. 24 ›› Issue (10): 1907.

尼龙1212/蒙脱土体系在剪切流场中蒙脱土片层剥离机理的研究

王刚, 周持兴, 李剑, 吴增刚

上海交通大学化学化工学院, 上海 200240

收稿日期:2002-09-10 出版日期:2003-10-24 发布日期:2003-10-24
通讯作者: 周持兴(1943年出生),男,教授,博士生导师,主要从事聚合物复杂结构加工流变学与计算机模拟研究.E-mail:cxzhou@sjtu.edu.cn E-mail:cxzhou@sjtu.edu.cn
基金资助:
国家重点基础研究专项经费(批准号:G199906408);国家自然科学基金(批准号:20174024)资助

Studies on the Exfoliating Mechanism of Montorillonite Slice Layer in Nylon 1212/Montorillonite System Under Shear-fluidic Field

WANG Gang, ZHOU Chi-Xing, LI Jian, WU Zeng-Gang

College of Chemistry and Chemical Engineering, Shanghai Jiaotong University, Shanghai 200240, China

Received:2002-09-10 Online:2003-10-24 Published:2003-10-24

摘要/Abstract

摘要： 在聚合物熔体插层蒙脱土(MMT)过程中,流场的作用使得蒙脱土晶粒表面的片层在超过临界值时发生弯曲,与内核之间形成一楔状,并进一步发生断裂,形成剥离结构.结果表明,合适的流场强度是得到适当大小的片状粒子的关键.

关键词: 蒙脱土, 剥离, 弯曲, 断裂

Abstract: There is a critical value(velocity gradient Xviscosity) at which the shear-induced plane compresion causes the slices of montmorillonite(MMT) to buckle and produces a cuneate space between the outside slice and the crystallite during the melt intercalation.The outest slice can be broken when it bends exceed the minimal curvature radius and yields exfoliation further.The appropriate intensity of flow is the key point of getting suitable slice configuration in the nano-composition process.

Key words: Montmorillonite (MMT), Exfoliate, Bending, Breakage

中图分类号:

O631

TrendMD:

王刚, 周持兴, 李剑, 吴增刚. 尼龙1212/蒙脱土体系在剪切流场中蒙脱土片层剥离机理的研究. 高等学校化学学报, 2003, 24(10): 1907.

WANG Gang, ZHOU Chi-Xing, LI Jian, WU Zeng-Gang . Studies on the Exfoliating Mechanism of Montorillonite Slice Layer in Nylon 1212/Montorillonite System Under Shear-fluidic Field. Chem. J. Chinese Universities, 2003, 24(10): 1907.

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