铈离子对镍电沉积层择优取向的影响

高等学校化学学报 ›› 1996, Vol. 17 ›› Issue (11): 1782.

铈离子对镍电沉积层择优取向的影响

黄令, 许书楷, 汤皎宁, 杨防祖, 周绍民

厦门大学化学系, 厦门, 361005

收稿日期:1995-11-13 出版日期:1996-11-24 发布日期:1996-11-24
通讯作者: 黄令,男,32岁,讲师,博士研究生.
作者简介:黄令,男,31岁,讲师,博士研究生.
基金资助:
国家自然科学基金

Effect of Ce⁴⁺ on Preferred Orientation Nickel

HUANG Ling, XU Shu-Kai, TANG Jiao-Ning, YANG Fang-Zu, ZHOU Shao-Min

Department of Chemistry, Xiamen University, Xiamen, 361005

Received:1995-11-13 Online:1996-11-24 Published:1996-11-24

摘要/Abstract

关键词: 电沉积镍, 择优取向, X射线衍射, 循环伏安法

Abstract: Ni deposit with(220)highly preferred orientation was obtained with potentiostatic method in solution containing 1.0 mol/L NiSO₄,0.5 mol/L H₃BO₃,1.9×10₃mol/L CeSO(₄)₂.The deposit with highly preferred orientation was examined with X-ray diffraction and scanning tunneling microscope.It is shown that the Ni deposit has(220)highly preferred orientation,with texture degree of 95 percent and layer-shaped structure.The electrochemical behavior of the solution was studied with cyclic voltammetry.

Key words: Electrodeposited NiPreferred orientation, XRD, Cyclic voltammetry

TrendMD:

黄令, 许书楷, 汤皎宁, 杨防祖, 周绍民. 铈离子对镍电沉积层择优取向的影响. 高等学校化学学报, 1996, 17(11): 1782.

HUANG Ling, XU Shu-Kai, TANG Jiao-Ning, YANG Fang-Zu, ZHOU Shao-Min. Effect of Ce⁴⁺ on Preferred Orientation Nickel. Chem. J. Chinese Universities, 1996, 17(11): 1782.

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