JD树脂刻蚀及涂层的XPS研究

高等学校化学学报 ›› 1995, Vol. 16 ›› Issue (1): 147.

JD树脂刻蚀及涂层的XPS研究

高长有¹, 郑大方², 杨柏¹, 魏诠², 沈家骢¹

1. 吉林大学化学系, 长春 130023;
2. 吉林大学测试中心, 长春 130023

收稿日期:1994-01-25 修回日期:1994-04-15 出版日期:1995-01-24 发布日期:1995-01-24
通讯作者: 高长有,男,28岁,博士研究生.
作者简介:沈家骢
基金资助:
国家自然科学基金

Studies of Coating and Etching Process of JD Resin with XPS

GAO Chang-You¹, ZHENG Da-Fang², YANG Bai¹, WEI Quan², SHEN Jia-Cong¹

1. Department of Chemistry, Jilin University, Changchun, 130023;
2. Test Centre, Jilin University, Changchun, 130023

Received:1994-01-25 Revised:1994-04-15 Online:1995-01-24 Published:1995-01-24

摘要/Abstract

摘要： JD光学树脂表面刻蚀过程的XPS研究表明,引进树脂表面的CON、C=O、C-SO₃H、COOH等基团随刻蚀温度的提高或时间的延长而增加,对其相对含量进行了计算。固化后的耐磨涂层具有SiO₂结构。JD板材的最佳刻蚀条件为20℃、20min.

关键词: X射线光电子能谱, 刻蚀, 粘接强度, 光学塑料, 涂层

Abstract: The etching process of JDresins studied with XPS shows that benzene rings accumulated on the surface more than in the body. The amount of groups such as C-OH,C=O,C-SO₃H and COOH introduced into the surface during etching increased with the increase of temperature or the prolonging of the time,and the content of every groups is calculated. The abrasion-resistance coating after being solidified has SiO₂structure. The priority etching condition for JD resins is at 20℃ kept for 20 min,so that the adhesion strength of the coating is increased while the light transmittance of the substrate is not decreased obviously.

Key words: XPS, Etching, Adhesion strength, Optical plastic, Coating

TrendMD:

高长有, 郑大方, 杨柏, 魏诠, 沈家骢. JD树脂刻蚀及涂层的XPS研究. 高等学校化学学报, 1995, 16(1): 147.

GAO Chang-You, ZHENG Da-Fang, YANG Bai, WEI Quan, SHEN Jia-Cong. Studies of Coating and Etching Process of JD Resin with XPS. Chem. J. Chinese Universities, 1995, 16(1): 147.

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