摘要: 本文以前文[1]为基础测定了不同氟化剂存在下杂质元素的蒸发率,计算了弧温、电子密度以及杂质元素的电离度,研究了影响元素谱线强度的诸因素,用晶体X射线衍射分析了电极反应残留物,提出了氟化反应的机理,并通过热力学计算予以说明。
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胡斌, 江祖成, 廖振环, 曾云鹗. 氩氧控制气氛下直流电弧放电中氟化反应. 高等学校化学学报, 1990, 11(10): 1129.
Hu Bin, Jiang Zucheng, Liao Zhenhuan, Zeng Yun'e. Fluorination Reaction Under Ar-O2 Controlled Atmosphere DC Arc Discharge. Chem. J. Chinese Universities, 1990, 11(10): 1129.