高等学校化学学报 ›› 1994, Vol. 15 ›› Issue (12): 1737.
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范崇正1, 铃木稔2, 井上嘉3, 安部忠广4
FAN Chong-Zheng1, Suzuki Minoru2, Inoue Miyoshi3, Abe Tadahiro4
摘要: 采用扫描电镜(SEM)、电子探针微区分析(EPMA)、微区X射线衍射(Micro-XRD)及X光荧光光谱(XFS)等仪器分析手段,对一块被粉状锈(主要成分为Cu2(OH)3Cl)严重腐蚀的东汉青铜镜残片进行元素和结构的分区分析。剖面分析表明,青铜合金在浇铸过程中的偏析作用是造成其电化学腐蚀的内在因素;铜锈的生成是分步进行的;氯元素对合金的侵蚀由表面直至基体深部;生锈过程中铜元素从合金内部向表面外扩散。运用相平衡理论、电化学腐蚀原理及化学热力学对青铜器生锈各阶段的化学反应过程进行了探讨。
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