高等学校化学学报 ›› 1990, Vol. 11 ›› Issue (9): 933.
孙铁1, 蒋大振1, 刘子阳1, 李颖1, 闵恩泽2, 何鸣元2
Sun Tie1, Jiang Dazhen1, Liu Ziyang1, Li Ying1, Min Enze2, He Mingyuan2
摘要: 用汉克脱石与丙胺基三乙氧基硅烷反应,制得硅交联汉克脱石。产物经700℃焙烧,其底面间距为17.7Å。柱状汉克脱石的热稳定性高于层状汉克脱石。改变层间阳离子不影响层间距。NH3-TPO和吡啶吸附实验表明样品存在L酸和B酸中心,且酸强度较弱。柱状样品的裂解活性高于层状样品。镁和镧可减小活性衰减速率。
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