1 |
Thirumdas R., Kothakota A., Annapure U., Siliveru K., Blundell R., Gatt R., Valdramidis V. P., Trends Food Sci. Technol., 2018, 77, 21—31
|
2 |
Wang S. T., Liu Z. J., Pang B. L., Gao Y. T., Xu D. H., Liu D. X., Kong M. G., J. Phys. D: Appl. Phys., 2022, 55(18), 185202
|
3 |
Zhou X. F., Wang W. C., Yang D. Z., Liang J. P., Zhao Z. L., Yuan H., Plasma Process. Polym., 2019, 16(3), 1800124
|
4 |
Zhou X. F., Xiang H. F., Yang M. H., Geng W. Q., Liu K., J. Phys. D: Appl. Phys., 2023, 56(45), 455202
|
5 |
Liu K., Ren W., Ran C. F., Zhou R. S., Tang W. B., Zhou R. W., Yang Z. H., Ostrikov K., J. Phys. D: Appl. Phys., 2021, 54(6), 065201
|
6 |
Pang B. L., Liu Z. J., Wang S. T., Gao Y. T., Qi M., Xu D. H., Zhou R. W., Liu D. X., Kong M. G., Appl. Phys. Lett., 2022, 121(14), 144101
|
7 |
Wang X. Y., Qi Z. H., Song Y., Liu D. P., Acta Phys. Sin., 2016, 65(12), 123301
|
|
王学扬, 齐志华, 宋颖, 刘东平. 物理学报, 2016, 65(12), 123301
|
8 |
Guo L., Xu R. B., Gou L., Liu Z. C., Zhao Y. M., Liu D. X., Zhang L., Chen H. L., Kong M. G., Appl. Environ. Microbiol., 2018, 84(17), e00726
|
9 |
Liu C. T., Kumakura T., Ishikawa K., Hashizume H., Takeda K., Ito M., Hori M., Wu J. S., Plasma Sources Sci. Technol., 2016, 25(6), 065005
|
10 |
Xu H., Quan L., Liu Y., Zhang H., Shao M. X., Xie K., Phys. Plasmas, 2022, 29(7), 073503
|
11 |
Tschang C. Y. T., Bergert R., Mitic S., Thoma M., J. Phys. D: Appl. Phys., 2020, 53(21), 215202
|
12 |
Liu K., Zuo J., Li H., Xiang H. F., Ran C. F., Yang M. H., Geng W. Q., Chem. J. Chinese Universities, 2022, 43(10), 20220249
|
|
刘坤, 左杰, 李华, 项红甫, 冉从福, 杨明昊, 耿文强. 高等学校化学学报, 2022, 43(10), 20220249
|
13 |
Zhao Z. L., Yang D. Z., Wang W. C., Zhou X. F., Yuan H., Spectrosc. Spect. Anal., 2019, 39(4), 1236—1241
|
|
赵紫璐, 杨德正, 王文春, 周雄峰, 袁皓. 光谱学与光谱分析, 2019, 39(4), 1236—1241
|
14 |
Jiang N., Kong X. Q., Lu X. L., Peng B. F., Liu Z. Y., Li J., Shang K. F., Lu N., Wu Y., J. Clean. Prod., 2022, 332, 129998
|
15 |
Zhao Z. L., Wang W. C., Yang D. Z., Zhou X. F., Yuan H., IEEE Trans. Plasma Sci., 2019, 47(8), 4219—4224
|
16 |
Sun X. D., Liu T. T., Wang Q. Q., Zhang J., Cao M. S., ACS Biomater. Sci. Eng., 2023, 9(8), 4442—4461
|
17 |
Liu K., Zuo J., Zhou X. F., Ran C. F., Yang M. H., Geng W. Q., Acta Phys. Sin., 2023, 72(5), 055201
|
|
刘坤, 左杰, 周雄峰, 冉从福, 杨明昊, 耿文强. 物理学报, 2023, 72(5), 055201
|
18 |
Liu K., Zuo J., Ran C. F., Yang M. H., Geng W. Q., Liu S. T., OSreikov K., Phys. Chem. Chem. Phys., 2022, 24(15), 8940—8949
|
19 |
Liu K., Xia H. T., Yang M. H., Geng W. Q., Zuo J., Ostrikov K., Vacuum, 2022, 198, 110901
|
20 |
Liu K., Hu Y., Lei J., Phys. Plasmas, 2017, 24(10), 103513
|
21 |
Ribeiro B. G., David P. R. D. S., Daltro T. P. P., Charamba L. V. C., de Andrade M. F., Napoleao D. C., Rev. Eletronica Gest. Educ. Technol. Ambient., 2018, 22, e2
|
22 |
Zhou X. F., Zhao Z. L., Liang J. P., Yuan H., Wang W. C., Yang D. Z., Plasma Process. Polym., 2019, 16(7), e1900001
|
23 |
Mishin V., Gray J. P., Heck D. E., Laskin D. L., Laskin J. D., Free Radic. Biol. Med., 2010, 48(11), 1485—1491
|
24 |
Wu D., Ryu J. C., Chung Y. W., Lee D. Y., Ryu J. H., Yoon J. H., Yoon J. Y., Anal. Chem., 2017, 89(20), 10924—10931
|
25 |
Shao W. H., Hu X., Shang J., Lin F., Jin L. M., Quan C. S., Zhang Y. M., Li J., Chem. J. Chinese Universities, 2022, 43(10), 20220132
|
|
邵文惠, 胡欣, 尚静, 林峰, 金黎明, 权春善, 张艳梅, 李军. 高等学校化学学报, 2022, 43(10), 20220132
|
26 |
Zhao M. Y., Huang Z. Y., Chem. J. Chinese Universities, 2022, 43(2), 20210644
|
|
赵梦阳, 黄紫洋. 高等学校化学学报, 2022, 43(2), 20210644
|
27 |
Takeda J., Nezu A., Akatsuka H., IEEE Trans. Plasma Sci., 2019, 47(9), 4250—4259
|
28 |
Sakiyama Y., Graves D. B., Chang H. W., Shimizu T., Morfill G. E., J. Physics D: Appl. Phys., 2012, 45(42), 425201
|
29 |
Liu K., Zheng Z. F., Liu S. T., Hu Y. Y., Plasma Chem. Plasma Process., 2019, 39(5), 1255—1274
|
30 |
Gordillo⁃Vazquez F. J., J. Phys. D: Appl. Phys., 2008, 41(23), 234016
|
31 |
Liu K., Geng W. Q., Zhou X. F., Duan Q. S., Zheng Z. F., Ostrikov K., Plasma Sources Sci. Technol., 2023, 32(2), 025005
|
32 |
Wang S., Zhou Z. K., Zhou R. W., Fang Z., Cullen P. J., J. Appl. Phys., 2021, 130(10), 103302
|
33 |
Liu K., Yin Y., Geng W. Q., Xia H. T., Li H., Chem. J. Chinese Universities, 2022, 43(11), 20220278
|
|
刘坤, 尹远, 耿文强, 夏昊天, 李华. 高等学校化学学报, 2022, 43(11), 20220278
|
34 |
Liu K., Liu S. T., Ran C. F., Front. Phys., 2020, 8, 242
|
35 |
Jiang N., Sun Y., Peng B. F., Li J., Shang K. F., Lu N., Wu Y., Plasma Process. Polym., 2022, 19(3), e2100108
|
36 |
Barman K., Mudgal M., Rane R., Bhattacharjee S., Phys. Plasmas, 2021, 28(12), 123503
|
37 |
Liu Y. D., Yan H. J., Guo H. F., Fan Z. H., Wang Y. Y., Wu Y., Ren C. S., Phys. Plasmas, 2018, 25(3), 033519
|
38 |
Winter J., Tresp H., Hammer M. U., Iseni S., Kupsch S., Schmidt⁃Bleker A., Wende K., Dunnbier M., Masur K., Weltmann K. D., Reuter S., J. Phys. D: Appl. Phys., 2014, 47(28), 285401
|
39 |
Ikawa S., Kitani K., Hamaguchi S., Plasma Process. Polym., 2010, 7(1), 33—42
|
40 |
Kobayashi T., Iwata N., Oh J. S., Hahizume H., Ohta T., Takeda K., Ishikawa K., Hori M., Ito M., J. Phys. D: Appl. Phys., 2017, 50(15), 155208
|
41 |
Liu K., Duan Q. S., Zheng Z. F., Zhou R. S., Zhou R. W., Tang W. B., Cullen P., Ostrikov K., Plasma Process. Polym., 2021, 18(11), 2100016
|
42 |
Qin H. B., Qiu H. J., He S. T., Hong B. X., Liu K., Lou F. X., Li M. C., Hu P., Kong X. H., Song Y. J., Liu Y. C., Pu M. F., Han P. J., Li M. Z., An X. P., Song L. H., Tong Y. G., Fan H. H., Wang R. X., J. Hazard. Mater., 2022, 430, 128414
|
43 |
Ma M. Y., Zhang Y. Z., Lv Y., Sun F. S., J. Phys. D: Appl. Phys., 2020, 53(18), 185207
|