[1] Taton T.A.,M irkin C.A.,Letsinger R.L..Science[J],2000,289:1757—1760
[2] Reichert J.,Csáki A.,Kohler J.M.etal..Anal.Chem.[J],2000,72(24):6025—6029
[3] ZHANG Juan(张娟),XU J ing-Juan(徐静娟),CHEN Hong-Yuan(陈洪渊).Chem.J.Chinese Universities(高等学校化学学报)[J],2004,25(4):614—617
[4] WANG Sheng-Tian(王胜天),Q IN Yu-Hua(秦玉华),ZHA I Sheng-Yong(翟剩勇)etal..Chem.J.Chinese Universities(高等学校化学学报)[J],2004,25(5):841—843
[5] Gricial R.,Doremus R.H..J.Mater.Sci.[J],1992,27(13):154—156
[6] Doremus R.H..J.Mater.Sci.[J],1992,27(13):285—297
[7] Hench L.L..J.Am.Ceram.Soc.[J],1991,74(7):1449—1503
[8] Q IN Yu-Hua(秦玉华),ZHANG Yuan-J ian(张袁健),XU Xiu-Dong(徐修冬)etal..Acta Chim.Sinica(化学学报)[J],2004,62(9):860—863
[9] Dollimore L.S.,Gillard R.D..J.Chem.Soc.Dalton Trans.[J],1973,(9):933—940
[10] FENG L ing-Yun(冯凌云),L I Shi-Pu(李世普),CHEN W en-J ie(陈闻杰)etal..Chinese J.NonferrousMetals(中国有色金属学报)[J],1999,9(3):651—654
[11] Pang D.W.,Abruna H.D..Anal.Chem.[J],1998,70(15):3162—3169
[12] Labuda J.,BuèkováM.,Mattusch J.etal.Electroanalysis[J],1999,11(2):101—107
[13] Korbut O.,BuèkováM.,Tarapèík P.etal..J.Electroanal.Chem.[J],2001,506(2):143—148
[14] Cai X.H.,R ivas G.,Farias P.A.M.etal..Electroanalysis[J],1996,8(829):753—758
[15] W ang H.S.,Ju H.X.,Chen H.Y..Electroanalysis[J],2001,13(13):1105—1109
[16] W ang H.S.,Ju H.X.,Chen H.Y..Electroanalysis[J],2002,14(23):1615—1620
[17] O ikawa S.,Kawanishi S..B iochim.B iophys.Acta[J],1998,1399(1):19—30
[18] Chang J.,W atson W.P.,Randerath E.etal..Mutation Res.[J],1993,291(2):147—159
[19] L loyd D.R.,Phillip s D.H..Mutation Res.[J],1999,424(122):23—36
[20] Luo Y.,Han Z.,Chin S.M.etal..Proc.Natl.Acad.Sc.iUSA[J],1994,91:12438—12442 |