高等学校化学学报 ›› 2011, Vol. 32 ›› Issue (12): 2739.
黄灿领, 胡彬彬, 王广君, 李洪伟, 龚时江, 杜祖亮
HUANG Can-Ling, HU Bin-Bin, WANG Guang-Jun, LI Hong-Wei, GONG Shi-Jiang, DU Zu-Liang*
摘要: 以特殊脉冲电沉积方法制备CuInSe2(CIS)前驱体薄膜, 通过真空蒸镀法在CIS薄膜上沉积Al膜, 经硒化退火后在氧化铟锡(ITO)基底上制备了Cu(InAl)Se2(CIAS)薄膜. 采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱(EDS)、X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、紫外-可见吸收光谱(UV-Vis)对其形貌、结构、成分及光学吸收性质进行了表征. 结果表明, 制备的CIAS薄膜颗粒均匀, 表面平整致密, 呈黄铜矿结构. 薄膜在可见光区具有良好的吸收, 带隙约为1.65 eV.
中图分类号:
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