[1] Manz A.,Graber N.,Widm er H.M..Sen s.Actuato rs B[J],1990,B 1:244—248
[2] WAN GShi-Li(王世立),FANG Zhao-Lun(方肇伦).Sp ectr.and Sp ectr.Anal.(光谱学与光谱分析)[J],2000,20:143—148
[3] FU Xiao-Yun(傅小芸),LU Jian-De(吕建德),CHEN Yao-Zu(陈耀祖).Chem.J.Ch inese Un iversities(高等学校化学学报)[J],1997,18(9):1 453—1 455
[4] Liang Z.H.,Ch iem N.,Ocvirk G.et al..Anal.Chem.[J],1996,68:1 040—1 046
[5] Nakan ish i H.,Nish im o to T.,Arai A.et al..Electrop ho resis[J],2001,22:230—234
[6] Peterson N.J.,Mogen sen K.B.,Ku tter J.P..Electrop ho resis[J],2002,23:3 528—3 536
[7] Cerio tti L.,Lich tenberg J.,Clém en t S.et al..MicroTA S 2001[C],Netherland s:Kluw er Academ ic Pub lishers,2001:339—340
[8] Li J.J.,Th ibau lt P.,Bing s N.H.et al..Anal.Chem.[J],1999,71:3 036—3 045
[9] Liu S.,Zhang Z.,Ren H.et al..Micro-TA S 2001[C],Netherland s:Kluw er Academ ic Pub lishers,2001:99—100
[10] YIN Xue-Feng(殷学锋),SHEN Hong(沈 宏),FANG Zhao-Lun(方肇伦).Ch inese J.Anal.Chem.(分析化学)[J],2003,31:116—119
[11] Jacob son S.C.,Hergen roeder R.,Kou tny L.B.et al..Anal.Chem.[J],1994,66:1 107—1 113
[12] Alarie J.P.,Jacob son S.C.,Cu lbertson C.T.et al..Electrop ho resis[J],2000,21:100—106
[13] Fang Q.,Xu G.M.,Fang Z.L..Anal.Chem.[J],2002,74:1 223—1 227
[14] Bing s N.H.,Wang C.,Sk inner C.D.et al..Anal.Chem.[J],1999,71:3 292—3 296 |