摘要: 光刻蚀技术是微电子加工技术中最成功的一种,但由于受到光学衍射等的限制,100nm是光刻蚀的极限,为此人们探索了许多先进的刻蚀技术,如超紫外线刻蚀(EUV)、软X射线刻蚀、电子束刻蚀和聚焦离子束刻蚀(FIB)等,可制作尺寸小于100nm的图形,但普遍存在加工速度慢及成本高等缺点.
中图分类号:
TrendMD:
王哲, 邢汝博, 韩艳春, 李滨耀. 聚合物三维微图案加工的转移微模塑新方法. 高等学校化学学报, 2003, 24(5): 946.
WANG Zhe, XING Ru-Bo, HAN Yan-Chun, LI Bin-Yao. A New Method for Fabrication of Three-dimensional Polymer Micropatterning-Microtransfer Molding. Chem. J. Chinese Universities, 2003, 24(5): 946.