高等学校化学学报 ›› 1997, Vol. 18 ›› Issue (6): 943.
徐灿1, 张荣君1, 朱雷1, 赵利1, 钱士雄1, 李郁芬1, 龙英才2
XU Can1, ZHANG Rong-Jun1, ZHU Lei1, ZHAO Li1, QIAN Shi-Xiong1, LI Yu-Fen1, LONG Ying-Cai2
摘要: 利用XeCl准分子激光烧蚀多种硅氧多孔结构材料,在负离子通道测得丰富的[(SiO2)nX]-负离子团簇,并讨论了多孔网络结构和表面活性基团的分布对激光能量的吸收、传输及团簇产生的重要作用.
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