[1] Boo th B.L..J.L igh tw ave T echno l.[J],1989,7(10):1445—1453
[2] H ida Y.,Inoue Y.,Im am u ra S..E lectron.L ett.[J],1994,30(12):959—960
[3] E ldada L.,Xu C.,Stengel K.M.T.et al..J.L igh tw ave T echno l.[J],1996,14(7):1704—1713
[4] Bouadm a N.,L iang J.,L even son R.et al..IEEE Pho ton.T hchno l.L ett.[J],1994,6(10):1188—1190
[5] Knoche T h.,M u ller L.,K lein R.et al..E lectron.L ett.[J],1996,32(14):1284—1285
[6] Kang J.W.,K im J.P.,L ee W.Y.et al..J.L igh tw ave T echno l.[J],2001,19(6):872—875
[7] W atanabe T.,O oba N.,H ayash ida S.et al..J.L igh tw ave T echno l.[J],1998,16(6):1049—1055
[8] Kobayash i J.,M atsuu ra T.,Sasak i S.et al..A pp l.O p t.[J],1998,37(6):1032—1037
[9] U su iM.,H ik ita M.,W atanabe T.et al..J.L igh tw ave T echno l.[J],1996,14(10):2338—2343
[10] H u W.,L iu B.J.,J i Z.et al..Po lym.P rep rin ts[J],2002,43(1):557—558
[11] HU W ei(呼微),L IU Bai-J un(刘佰军),ZHAN G L i-M ei(张丽梅)et al..Chem.J.Ch inese U n iversities(高等学校化学学报)[J],2003,24(1):184—185
[12] Guo W.B.,M a C.S.,Zhang D.M.et al..O p t.Comm un.[J],2002,201:45—53
[13] T akahash i H.,Suzuk i S.,N ish i I..J.L igh tw ave T echno l.[J],1994,12(6):989—995
[14] A ndo S.,M atsuu ra T.,Sasak i S..M acrom o lecu les[J],1992,25(21):5858—5860 |