1 |
Liu Z. C., Liu D. X., Chen C., Li D., Yang A. J., Rong M. Z., Chen H. L., Kong M. G., J. Phys. D: Appl. Phys., 2015, 48(49), 495201
|
2 |
Graves D. B., J. Phys. D: Appl. Phys., 2012, 45 (26), 263001
|
3 |
Sato T., Furuya O., Ikeda K., Nakatani T., Plasma Processes Polym., 2008, 5(6), 606—614
|
4 |
Liu K., Duan Q., Zheng Z., Zhou R., Zhou R., Tang W., Cullen P., Ostrikov K., Plasma Processes Polym., 2021, 18 (11), 2100016
|
5 |
Liu K., Zheng Z. F., Liu S. T., Hu Y. Y., Plasma Chem. Plasma Process., 2019, 39(5), 1255—1274
|
6 |
Liu K., Hu Y., Lei J., Phys. Plasmas, 2017, 24(10), 103513
|
7 |
Park S., Choe W., Jo C., Chem. Eng. J., 2018, 352, 1014—1021
|
8 |
Pavlovich M. J., Clark D. S., Graves D. B., Plasma Sources Sci. Technol., 2014, 23(6), 065036
|
9 |
Tschang C. Y. T., Thoma M., J. Phys. D: Appl. Phys., 2020, 53(5), 055201
|
10 |
Yoon S. Y., Yi C., Eom S., Park S., Kim S. B., Ryu S., Yoo S. J., Phys. Plasmas, 2017, 24(12), 123516
|
11 |
Xi W., Wang W., Liu Z., Wang Z., Guo L., Wang X., Rong M., Liu D., Plasma Sources Sci. Technol., 2020, 29(9), 095013
|
12 |
Lee H. W., Kim G. J., Kim J. M., Park J. K., Lee J. K., Kim G. C., J. Endodont., 2009, 35(4), 587—591
|
13 |
Shcherbanev S. A., Khomenko A. Y., Stepanyan S. A., Popov N. A., Starikovskaia S. M., Plasma Sources Sci. Technol., 2017, 26(2), 02LT01
|
14 |
Kosarev I., Khorunzhenko V., Mintoussov E., Sagulenko P., Popov N., Starikovskaia S., Plasma Sources Sci. Technol., 2012, 21(4), 045012
|
15 |
Pancheshnyi S., J. Phys. D: Appl. Phys., 2006, 39(8), 1708—1710
|
16 |
Paris P., Aints M., Valk F., Plank T., Haljaste A., Kozlov K. V., Wagner H. E., J. Phys. D: Appl. Phys., 2005, 38(21), 3894—3899
|
17 |
Malik M. A., Jiang C., Heller R., Lane J., Hughes D., Schoenbach K. H., Chem. Eng. J., 2016, 283, 631—638
|
18 |
Anicich V. G., J. Phys. Chem. Ref. Data, 1993, 22(6), 1469—1569
|
19 |
Cenian A., Chernukho A., Borodin V., Contrib. Plasma Phys., 1995, 35(3), 273—296
|
20 |
Sakiyama Y., Graves D. B., Chang H. W., Shimizu T., Morfill G. E., J. Phys. D: Appl. Phys., 2012, 45(42), 425201
|
21 |
Kim H. H., Prieto G., Takashima K., Katsura S., Mizuno A., J. Electrost., 2002, 55(1), 25—41
|
22 |
Yin S. E., Sun B. M., Gao X. D., Xiao H. P., Plasma Chem. Plasma Process., 2009, 29(6), 421—431
|
23 |
Kogelschatz U., Eliasson B., Hirth M., Ozone: Sci. Eng., 1988, 10(4), 367—377
|
24 |
Eliasson B., Kogelschatz U., IEEE Trans. Plasma Sci., 1991, 19(2), 309—323
|
25 |
Du H. L., He L. M., Ding W., Yu J. L., Zuo H., High Voltage Eng., 2010, 36(8), 2041-2046
|
|
杜宏亮, 何立明, 丁伟, 于锦禄, 左红. 高电压技术, 2010, 36(8), 2041—2046
|
26 |
Kim H. Y., Kang S. K., Kwon H. C., Lee H. W., Lee J. K., Plasma Processes Polym., 2013, 10(8), 686—697
|
27 |
Medjahdi I. S., Ferouani A. K., Lemerini M., Mohammed S., IEEE Trans. Plasma Sci., 2021, 49(3), 1181—1189
|