%0 Journal Article %A 徐智超 %A 李雪超 %A 唐雁宁 %A 张海明 %A 迟力峰 %T 对羟基二联苯诱导的表面金属-有机键断裂 %D 2021 %R 10.7503/cjcu20200661 %J 高等学校化学学报 %P 1241-1245 %V 42 %N 4 %X

金属-有机杂化结构是表面在位反应过程中常见的中间体. 金属-有机杂化结构中金属-有机键的断裂需要克服较高的活化能垒, 往往会引起一系列竞争副反应以及分子的脱附. 本文利用扫描隧道显微镜研究了 4,4′-二羟基联苯分子在金属表面与预先制备的金属-有机链的作用, 发现其氧端能有效地降低金属有机杂化体系断键的能垒, 使得金属-有机键的断键反应能在较低的温度下进行. 该结果提供了一种调控表面反应中间物的新手段.

%U http://www.cjcu.jlu.edu.cn/CN/10.7503/cjcu20200661